本发明涉及钼板清洁技术领域，具体公开了一种钼板清洁设备，壳体内设有自上而下倾斜的皮带输送机，壳体内设有两个清洁组件，清洁组件包括两个辊轴

本发明涉及污水处理技术领域，具体公开了污水处理设备，包括圆筒状的处理箱，所述处理箱内自上而下安装有第一网板、第二网板、第三网板和第四网板，所述处理箱上安装有控制装置，所述控制装置用于控制第一网板在处理箱内升降和旋转，所述第二网板、第三网...

本实用新型提供一种淬火炉用新型测温孔堵头，包括：堵头主体，所述堵头主体的表面开设有通孔，所述密封组件设置于所述通孔的内部，所述密封组件包括连接杆，所述连接杆的表面螺纹连接有多个螺纹套，所述连接杆的表面且位于多个所述螺纹套之间设置有多个密...

本实用新型提供一种淬火炉隔热屏用加热带固定结构，包括：基座，基座的内部设置有钼杆，固定架设置于钼杆的底端，长钼销设置于固定架的底部，两个短钼销分别设置于固定架的表面，固定架的内部且位于短钼销相对的一侧设置有瓷管，瓷套套设于瓷管的表面，大...

本实用新型提供一种淬火炉加热室，包括：风筒组件，风筒组件的内部设置有筒体组件，挡圈组件连接有于筒体组件的一端，挡圈组件的一侧连接有前盖组件，多个连接件连接于筒体组件表面的一侧，风筒组件表面的一侧开设有与连接件相适配的风道，筒体法兰设置于...

本实用新型提供一种淬火炉用加热室的隔热屏，包括：筒体框架，筒体框架的内部分别设置有第一隔热屏、第二隔热屏、第三隔热屏、第四隔热屏、第五隔热屏、第六隔热屏、第七隔热屏，多个加热带固定组件分别设置第一隔热屏内壁的一圈，多个固定组件分别设置于...

本实用新型提供一种半导体晶圆离子注入溅射工艺用的钨钼加工件。所述半导体晶圆离子注入溅射工艺用的钨钼加工件包括上盖；底座，所述底座设于所述上盖的下方；前连接板，所述前连接板设于所述上盖与所述底座之间；后连接板，所述后连接板设于所述上盖和所...

本实用新型提供一种金属粉末注射成形用钼舟。一种金属粉末注射成形用钼舟，包括：底板；金属框；两个所述金属框的背面通过卡块滑动连接于所述底板的表面的两侧，并且所述金属框的内壁的两侧之间滑动连接有支撑板；卡板，所述卡板的底部固定于所述支撑板的...

本实用新型提供一种高温钼带加热真空炉。所述高温钼带加热真空炉包括：筒体；隔热屏，所述隔热屏的表面设置于所述筒体的内部；基座，所述基座的表面贯穿于所述筒体的底表面；筒体，所述筒体的表面贯穿于所述基座和所述隔热屏的表面，所述位于所述打孔钼筒...