本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种具有超低反射率的纳米镀膜涂层，包括由中高折射率材料制成的最内层、中间层和由MgF2材料制成的最外层，所述中间层为交替叠加的TiO2和SiO2组合形成，所述中间层由9层膜组成。本发明具有纳米涂层结构，...

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种消偏振的平板薄膜截止滤光片，包括沉积在平板基底上的薄膜，所述薄膜的基本周期结构为：(aHbMcLbMaH)^P；其中，H代表四分之一光学厚度的高折射率膜层，M代表中四分之一光学厚度的中折射率膜层，L...

本发明涉及增透膜的技术领域，尤其涉及一种紫外193nm增透膜的制备方法。制备方法的镀膜材料为氟化镧和氟化镁，采用热电阻蒸发材料的方式进行镀膜，镀膜基底采用的是高纯度熔融JGS1石英玻璃。采用了高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度...