本发明公开了一种高透紫外193nm膜的制备方法，涉及光学薄膜技术领域。本发明先利用真空镀膜法依次在紫外熔融石英表面交替镀氟化镧和氟化镁膜四层，镀膜后在氟气气氛下退火，氟气的存在可以弥补氟化物薄膜的氟元素不足的问题，退火可以使高透紫外19...

本发明公开了一种镀膜厚度监测装置，包括放置底座、支撑架、监测组件和高度调节组件，所述高度调节组件包括下卡罩，所述监测组件包括固定卡架；所述下卡罩的底部与放置底座的顶部固定连接，所述下卡罩的顶部卡接有上顶罩，所述上顶罩的形状设置为顶部内凹...

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种具有超低反射率的纳米镀膜涂层，包括由中高折射率材料制成的最内层、中间层和由MgF2材料制成的最外层，所述中间层为交替叠加的TiO2和SiO2组合形成，所述中间层由9层膜组成。本发明具有纳米涂层结构，...

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种消偏振的平板薄膜截止滤光片，包括沉积在平板基底上的薄膜，所述薄膜的基本周期结构为：(aHbMcLbMaH)^P；其中，H代表四分之一光学厚度的高折射率膜层，M代表中四分之一光学厚度的中折射率膜层，L...

本发明涉及增透膜的技术领域，尤其涉及一种紫外193nm增透膜的制备方法。制备方法的镀膜材料为氟化镧和氟化镁，采用热电阻蒸发材料的方式进行镀膜，镀膜基底采用的是高纯度熔融JGS1石英玻璃。采用了高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度...