本发明提供一种快速热处理装置和快速热处理方法。所述快速热处理装置包括：衬底支撑件，被配置成支撑衬底；光源，被设置成面向衬底支撑件并被配置成朝向支撑在衬底支撑件上的衬底供应光能；以及控制器，被配置成通过控制输入到光源的功率来将衬底的温度从...

本发明提供一种改进沉积物体上的沉积均匀性的溅射装置和使用溅射装置的溅射方法。溅射装置包含：第一旋转轴；第一臂，连接到第一旋转轴以通过第一旋转轴的旋转而围绕第一旋转轴旋转；主磁体组件，设置在第一臂的一侧处且设置有外部磁极和内部磁极，外部磁...

本公开涉及一种气体循环装置及衬底处理系统，且更具体来说涉及一种使得能够稳定地重复使用排出的气体的气体循环装置且涉及一种衬底处理系统。根据示例性实施例的气体循环装置使排出的气体循环以再次供应所述气体，所述气体循环装置包括：壳体部件，被配置...

本发明提供一种将惰性气体注入到衬底上以控制衬底上的氧气浓度的气体注入模块和包含气体注入模块的激光设备。气体注入模块包含：注入块，具有穿过面向彼此的第一表面和第二表面的开口；第一注入部分，安置在注入块的内表面上以将第一气体供应到开口；以及...

本发明提供一种用于支撑衬底的设备，且更尤其，涉及一种用于支撑衬底的包含被划分以待组装的真空卡盘模块的设备。根据示范性实施例的用于支撑衬底的设备包含：真空卡盘模块，经配置以提供其上安放且支撑衬底的支撑表面，并且具备以可拆卸方式组装的上部板...

提供一种衬底处理设备，其中在多个腔室之间传送衬底的同时对衬底执行处理过程。衬底处理设备包含：第一腔室单元，包含经配置以在第一方向上传送衬底的第一传送部分，且在第一腔室单元中在第一方向上将衬底从一侧传送到另一侧的同时处理衬底；以及第二腔室...

本揭示涉及一种能够达成转子的稳定磁悬浮旋转的磁悬浮旋转装置以及包括其的基底处理装置。所述磁悬浮旋转装置可包括：壳体，包括具有圆柱形形状的内壁、具有圆柱形形状且设置于内壁外侧的外壁、及被配置成将内壁连接至外壁的底部部分；转子，具有圆柱形形...

本发明提供一种用于处理基底的设备及方法，其甚至在低温区中亦能够通过精确测量温度来进行有效热管理。用于处理基底的设备包含：腔室，组态以提供处理基底的处理空间；基底支撑件，设置于腔室的处理空间中以支撑基底；加热器，设置有组态以朝向基底的第一...

提供一种清洁喷嘴的印刷喷嘴清洁装置和印刷装置，墨水通过所述喷嘴以非接触方式不正常地排出。印刷喷嘴清洁装置包含：壳体部分，配置成在其一个表面中设置通孔且配置成围绕内部空间，设置在喷嘴头上以排出墨水的喷嘴部分至少部分地插入到所述通孔中；气流...

本公开涉及能够收集由线性轨和可移动块之间的摩擦产生的微粒的线性运动设备以及清洁所述线性运动设备的方法。所述线性运动设备包含：线性轨，其沿第一方向延伸；可移动块，其至少一部分与所述线性轨接触以沿着所述线性轨移动；以及集尘单元，其连接到所述...

本发明涉及一种用于形成薄膜的设备和方法，设备包括：腔室，被配置成在其中界定衬底处理空间；衬底支撑部件，连接到腔室以便支撑腔室内部的衬底；热源部件，连接到腔室以面向衬底支撑部件；以及等离子体产生部件，在至少两个点处连接到腔室以便在衬底支撑...

本发明提供一种沉积设备和一种用于清洗沉积设备的方法，沉积设备能够清洗沉积在线性沉积源上的沉积副产物。沉积设备包含：衬底支撑件，衬底支撑于其上；线性沉积源，分别将源气体和反应气体喷射到衬底上；源气体供应单元，配置成将源气体供应到线性源气体...

本发明提供一种通过包含线性地移动的可移动喷嘴的多个喷嘴来减少轻触时间且校正施加位置的分配头单元、分配器以及用于分配的方法。分配头单元包含：头部主体；头部移动部分，配置成移动头部主体；多个喷嘴，设置成与头部主体的一个侧表面间隔开且配置成将...

提供一种分配方法及一种分配器，所述分配方法及分配器能够通过以下工艺以均匀的厚度及宽度进行施加：在所述工艺中，喷嘴在沿着其中已使用由间隙传感器获取的衬底的平整度信息来对每一位置的高度进行校正的喷嘴行进路径移动的同时喷射分配器液体。所述分配...

本发明涉及一种衬底处理设备，所述衬底处理设备包括：腔室，被配置成在所述腔室中容置衬底；光源，被配置成向衬底照射光；截止器，设置在所照射的光的路径中，以阻挡所照射的光的至少一部分；捕集器，被配置成使从衬底反射的光或从截止器反射的光进入捕集...

本发明提供一种用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备包含：腔室；装载平台，安置在腔室内部以在所述装载平台上侧处限定装载和卸载衬底的装载空间；处理平台，安置在腔室内部以限定处理所述处理平台上的衬底的处理空间；传送部分，安装成将衬底从装载空...

本公开涉及一种紫外固化装置、衬底处理设备及衬底处理方法。衬底处理方法包括：制备涂布有光固化材料的衬底；将衬底安置在衬底支撑件上；在衬底上方使用衬底的局部区域形成用于衬底的处理空间；在处理空间中形成惰性气体气氛；以及在其中形成有惰性气体气...

本公开提供改善衬底的沉积均匀性的一种溅镀设备及一种溅镀方法。溅镀设备包括：腔室；靶，设置在腔室中；电源供应单元，用于对靶进行溅镀；衬底支撑单元，被设置成面对靶且支撑衬底；电磁体阵列，其中内部电磁体与外部电磁体对布置在腔室的侧壁的圆周处；...

本公开涉及一种改善待沉积物体上的沉积均匀性的溅射设备及溅射方法。所述溅射设备可包括：外旋转轴，具有管状形状；内旋转轴，设置在外旋转轴的中空部分中，以独立于外旋转轴旋转；第一臂，连接到外旋转轴及内旋转轴中的一个旋转轴，且通过所述一个旋转轴...

本公开涉及一种能够监测等离子体的等离子体处理设备及使用所述等离子体处理设备的等离子体监测方法。所述等离子体处理设备包括：第一电极，待处理物体支撑在第一电极上；第二电极，被设置成面向第一电极；供电单元，被配置成将功率供应到第一电极；测量单...