本发明涉及生物制剂和制剂中生物治疗剂的粘度降低和稳定性增强。降低粘度和增强稳定性的方法包括将生物治疗剂与增强性能的赋形剂结合，所述赋形剂选自双乙酰精氨酸、双乙酰赖氨酸、双乙酰组氨酸、双乙酰丝氨酸、双乙酰脯氨酸、双乙酰色氨酸、丙酰精氨酸、...

本发明提供了一种膜破裂溶液，包括：一种或多种纯化的非离子洗涤剂，其中至少一种洗涤剂具有适合于病毒载体/蛋白质抗剪切应力稳定的表面活性性质，以及任选的清除剂。以及任选的清除剂。

本发明涉及一种与固体载体耦合的新型多肽亲和配体和IgG抗体的亲和纯化。本发明包括(1)多肽配体的设计、制备和纯化，(2)多肽亲和配体与固相载体基质的偶联，(3)IgG(多克隆和单克隆抗体)的纯化，以及(4)多肽载体的固相基质的洗涤和再利...

本发明涉及包含胶和糖醇的缓释组合物，提供包含至少一种多糖胶与至少一种多羟基糖醇的喷雾干燥颗粒的缓释组合物，以及制备缓释组合物的方法。还提供缓释药物固体剂型，以及通过压制制备所述固体剂型的方法。

本发明涉及pH>8的半水性、碱性的微电子清洁组合物，包含：(A)至少一种与水接触时会产生氢氧化物的仲链烷醇胺；(B)以乙酸正丁酯的蒸发速率为基准速率1.0计，蒸发速率为0.3或更低的至少一种有机醇醚溶剂；(C)至少一种抑制腐蚀的环...

由在所述颗粒表面用烯丙胺或聚烯丙胺衍生化的多孔介质颗粒制成的色谱介质，所述聚烯丙胺直接获得或通过分子间聚合而获得，且该介质进一步被官能团官能化。该介质尤其用于分离生物分子。

提供了有效的用于从半导体衬底移除后蚀刻处理(PET)聚合物膜和光致抗蚀剂的一种组合物。该组合物展现出优异的聚合物膜移除能力，而同时维持了对于铜和低κ电介质的相容性，并且包含水、乙二醇、二醇醚溶剂、吗啉代丙胺和腐蚀抑制剂化合物，以及任选地...

本发明涉及具有改进的基板相容性的无氨碱性微电子清洗组合物。用于清洗微电子基板的无氨清洗组合物，更具体地，此组合物清洗剂对以敏感多孔、低-κ和高-κ电介质以及敷铜为特征的微电子基板一起使用、并对基板具有改进相容性。用于剥离光致抗蚀剂、清除...

提供一种包含基本上均匀的可压性颗粒的改进赋形剂，该赋形剂是基于高功能性颗粒磷酸氢钙的赋形剂。所述改进的赋形剂包含磷酸氢钙、粘合剂以及崩解剂，并且通过喷雾均匀的浆料成分而形成。与单独成分以及与由相同材料通过常规方法形成的赋形剂相比，所述改...

提供一种改进的赋形剂，其包含基本上均匀的可压性颗粒，是一种基于高功能性颗粒状微晶纤维素的赋形剂。该改进的赋形剂包含微晶纤维素和粘合剂以及任选的崩解剂，并且通过将组分的均匀的浆料进行喷雾而形成。与单独成分相比以及与由相同材料形成的传统赋形...

本发明提供了一种反相色谱介质，其选自式［Ｘ－Ｃ６Ｈ４－（Ｏ）ｍ－（ＣＨ２）ｎ］ｑ－Ｚ表示的介质和所述式的疏水性封端的介质，其中ｎ为１至４的数，ｍ为０或１，当ｍ为１时，Ｘ选自基团Ｈ、苯基和具有１至６个碳原子的烷基，当ｍ为０时，Ｘ选自苯氧基...

本发明提供一种微电子光致抗蚀剂清洗组合物，其适合用于清洗多金属微电子装置，当存在运用水的后续冲洗步骤时，清洗不会产生实质性的或显著的电偶腐蚀。

用于从Ｃｕ－双大马士革微电子结构去除铜的氧化物蚀刻残余物的高含水酸性清洁组合物，且其中该组合物防止或基本消除铜在Ｃｕ－双大马士革微电子结构上再沉积。

本发明提供包含至少一种多糖胶与至少一种多羟基糖醇的喷雾干燥颗粒的缓释组合物，以及制备缓释组合物的方法。还提供缓释药物固体剂型，以及通过压制制备所述固体剂型的方法。

本发明涉及一种用于清洗微电子或纳米电子设备的清洗组合物，该清洗组合物含有ＨＦ作为组合物中唯一的酸以及唯一的氟化物化合物；至少一种选自砜和硒砜的主要溶剂；至少一种具有金属离子络合或结合位点的多羟基烷基醇或芳基醇共溶剂；水；和任选的至少一种...

适用于清洁具有二氧化硅、低κ或高κ电介质和铜或铝金属化的微电子结构的清洁组合物包含强碱和选自酰胺、砜、环丁烯砜、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂。

适用于清洁具有二氧化硅、低κ或高κ电介质和铜或铝金属化的微电子结构的清洁组合物包含氧化剂和选自酰胺、砜、环丁烯砜、硒代砜和饱和醇的极性有机溶剂，及任选的其它组分。

用于清洁微电子设备的非水剥离和清洁组合物，所述组合物具有至少一种有机含硫极性化合物作为剥离溶剂，至少一种无水的强氢氧化物碱源，和至少一种羟基吡啶稳定剂以抑制有害的副反应。