阿德文泰克全球有限公司专利技术

阿德文泰克全球有限公司共有39项专利

  • 本申请涉及表面贴装技术领域,特别涉及一种掩模板的定位点制作方法和掩模板,第一方面,该掩模板的定位点制作方法包括:第一金属层制作:在基板的表面制作第一金属层;变色:对所述第一金属层的表面作变色处理;第二金属层制作:在基板的表面制作第二金属...
  • 本申请涉及显示设备制造技术领域,特别涉及一种电铸模板、基于该种电铸模板所制备的金属荫罩,以及二者的制备方法。其中,金属荫罩包括:电铸金属本体,电铸金属本体包括第一沉积部和第二沉积部,第二沉积部重叠地沉积于第一沉积部的一部分部位上,第二沉...
  • 本申请实施方式提供一种电铸金属掩模设备及电铸液搅拌装置,电铸液搅拌装置包括:动力源;与所述动力源传动连接的电铸挂具,所述电铸挂具能够在所述动力源的驱动下往复运动,所述电铸挂具用于挂装电铸模板;衬板,连接在所述电铸挂具上,所述衬板大体上垂...
  • 本申请涉及电铸工艺设备技术领域,特别涉及一种遮蔽板和遮蔽板的制造方法,以及一种电铸金属掩模设备。其中,电铸金属掩模设备包括:电铸容器,电铸容器内设置有阴极和阳极;阴极上设置有电铸模板,阳极上设置有用于形成电铸层的金属材料;阴极和阳极之间...
  • 本发明涉及显示装置制造技术领域,特别涉及一种金属掩模板及其焊接方法,第一方面,该属掩模板包括:金属薄膜和金属框架,金属薄膜和金属框架通过激光焊接并形成焊接轨道;沿金属薄膜和金属框架的焊接轨道的中线的两侧各分布有多个焊点。第二方面,激光焊...
  • 金属荫罩及其制备方法
    本申请公开了一种金属荫罩,其制备方法包括:提供模板、压膜、曝光及显影、电铸、压膜、曝光及显影、蚀刻以及退膜等步骤,获得带有多个穿孔的金属荫罩等步骤。在制备过程中穿孔内的深度与角度可以进行控制,可得到具有高开口精度以及开口内具有角度的金属...
  • 本申请公开了一种金属荫罩,其制备方法包括:提供模板以及进行了多次的压膜、曝光、显影以及电铸的循环程序,获得在相对二侧面上具有不同开口口径大小的金属荫罩,通过这种口径大小的变化,使金属荫罩具有台阶结构的蒸镀角。本申请通过分层电铸的方法在金...
  • 本申请公开了一种铁镍合金荫罩,其制备方法包括:提供一模板、电铸形成铁镍合金层、退膜、分离以及退火等步骤。制备完成的铁镍合金荫罩的含铁量高、热膨胀系数低,从而具有形状稳定性高、不易变形等特性,有助于提高重复利用率。
  • 通用对准适配器
    在阴影掩模张紧方法和设备中,由支撑框架支撑的阴影掩模定位在阴影掩模框架与一组致动器之间,阴影掩模的一部分延伸跨过支撑框架与阴影掩模框架之间的间隙。在编程控制器的控制下,使一组致动器同时地将阴影掩模的一部分的多个间隔开的部位偏移到间隙中,...
  • 本发明公开了一种多掩模对准系统和多掩模对准方法。在用于多掩模对准的设备和方法中,提供了包括贯通载体的孔口的载体。对于每个孔口,包括对准特征的组合的框架和阴影掩模定位在由载体支撑的间隔件上,使得组合的框架和阴影掩模的阴影掩模与孔口粗略对准...
  • 阴影掩模张紧方法和设备
    在阴影掩模张紧系统和方法中,将具有第二组对准特征件的对象定位在具有第一组对准特征件的阴影掩模的一侧上,使得所述对象和所述阴影掩模能够彼此独立地移动,并且所述第一组对准特征件与所述第二组对准特征件未最终对准。然后,将张力施加到阴影掩模上,...
  • 在阴影掩模-衬底对准的方法中,将光源、分束器、包括第一格栅的第一衬底、包括第二格栅的第二衬底以及光接收器相对于彼此进行定位,以限定包括由光源输出的被分束器第一次反射的光的光路。被第一次反射的光分别通过第一格栅或第二格栅并且被第二格栅或第...
  • 使用可变间距编码孔径的阴影掩模对准
    本发明公开了使用可变间距编码孔径的阴影掩模对准。在阴影掩模‑衬底对准方法中,衬底和阴影掩模各自包括具有分隔关系的多个直条的格栅,其中对于每个格栅,每个格栅的每一对分隔的直条被间隙所分开。至少三个相邻间隙之间的间隔是不同的或者不是恒定间距...
  • 利用编码孔径进行的阴影掩模的对准
    在一种阴影掩模‑衬底对准的方法中,提供了一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,还提供了一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅。还提供了一种光源‑光接收器对,该光源‑光接收器对在其间限定了一条光路径。将衬底的格栅和阴影掩...
  • 在物理气相沉积(PVD)方法中,在相同沉积室或容器中可以经由第一数量的阴影掩模将呈第一布置的多个材料图案沉积在基板的不同部分上,或者可以使用相同的阴影掩模一次将一个图案沉积在基板的不同部分上。在另一沉积室或容器中可以经由第二数量的阴影掩...
  • 本发明涉及多掩模对准系统和方法。在一种多掩模对准系统和方法中,提供了具有贯穿其的若干孔径的载体框。也提供了若干阴影掩模-框组合。每个阴影掩模-框组合包括第一组对准特征,并且每个阴影掩模-框组合被定位在载体的第一侧,框支撑阴影掩模与孔径中...
  • 在一种阴影掩模-衬底对准的方法中,提供了一种衬底,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅,还提供了一种阴影掩模,其包括具有多个相互隔开的条块的格栅。还提供了一种光源-光接收器对,该光源-光接收器对在其间限定了一条光路径。将衬底的格栅和阴影掩...
  • 在用于降低或消除其中一个或多个薄膜晶体管(TFT)上的渐进阈值偏移的方法中,第一和第二电压施加至第一晶体管的源极和栅极端子上,使得第一晶体管导通并将第一电压施加至第二晶体管的栅极端子。施加给第二晶体管的栅极端子的第一电压与通过LED元件...
  • 一种LCD像素包括:与第一总线连接的第一导电段;所述第一导电段上的第一绝缘体段;所述第一绝缘体段上的第二导电段;所述第二导电段上的液晶材料;所述液晶材料上的第三导电段;和具有分别与第二总线、第三总线和所述第二导电段连接的控制端子、第一电...
  • 一种准备和使用孔眼掩模的方法,将孔眼掩模的温度升高到第一安装温度(T1),从而使孔眼掩模的尺寸根据其热膨胀系数(CTE↓[am])增大,直到其至少一个尺寸为第一理想范围。也将框架的温度增加到T1,从而使框架的大小根据其低于CTE↓[am...